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拋光(guāng)機由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等底子元件組成(chéng)。電動機固定在底座上,固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動機軸相(xiàng)連。拋(pāo)光織物通過套圈(quān)緊固在拋(pāo)光盤上,電動機通過底(dǐ)座上的開關接通電源(yuán)起(qǐ)動(dòng)後,便可用(yòng)手(shǒu)對試樣(yàng)施加壓力在翻滾的拋光盤上(shàng)進行拋光(guāng)。拋(pāo)光過(guò)程中參加的拋光液可通過固定在底座上(shàng)的塑(sù)料盤中的排水管流入置於拋光機旁的方(fāng)盤內(nèi)。拋光罩及(jí)蓋可避免灰土及其他雜(zá)物在機器不使 用時落在拋光織物上(shàng)而影響運用作用。
東(dōng)莞自動(dòng)拋光機操作的關鍵是要設法得到最大的拋光速率,以便從速除去磨光(guāng)時發作的危害層。一同也(yě)要使拋光危害層不會影響終究調查(chá)到的組織,即不會造成假組織(zhī)。這(zhè)兩個要求(qiú)是敵對(duì)的。前者要求運用較粗的磨(mó)料,以確(què)保有較大的拋光速(sù)率(lǜ)來去除磨光(guāng)的危害(hài)層,但拋光危(wēi)害層也較深;後者(zhě)要求運(yùn)用最細的資料,使拋光危害層較淺,但拋光速率低。處理這個敵對的最好的方法就是把拋光(guāng)分為兩個階段進行。
是粗拋,目(mù)的是(shì)去除磨光危害(hài)層,這一階段應具有最大的拋光速率,粗拋構成的表層危害對錯有(yǒu)必要的考慮,不過(guò)也應當盡可(kě)能(néng)小;其次是精(jīng)拋(或稱終(zhōng)拋),其目的是去除粗拋發作的(de)表層危害,使拋光(guāng)危害減到最小。
自動拋光機(jī)廠家拋光時,試樣磨麵(miàn)與拋光盤應肯定平(píng)行並均勻地輕壓在拋光盤上,留(liú)心避免試樣飛出和因壓力太大而發作(zuò)新(xīn)磨痕。一同還應使試樣自轉並沿轉盤(pán)半徑方向來回移動(dòng),以避免拋光織物部分磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光(guāng)織(zhī)物堅持必定濕度。濕度太大會削弱拋光(guāng)的(de)磨痕作(zuò)用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬(shǔ)夾雜物及鑄鐵中石墨相發作“曳尾”現象;濕度太小時,因為抵觸(chù)生熱(rè)會使試樣升溫,光滑(huá)作(zuò)用減小,磨(mó)麵(miàn)失去光澤(zé),甚(shèn)至呈現黑斑,輕合金則會拋傷表麵。為了到達粗拋的目的,要求(qiú)轉盤轉速較低,最好不要逾(yú)越500r/min;拋光時間(jiān)應當比去掉劃痕(hén)所(suǒ)需的時間長(zhǎng)些,因為還要去掉變形層。
粗拋(pāo)後(hòu)磨麵光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下調查有均勻詳盡(jìn)的磨痕,有待精拋(pāo)消除。精拋時轉盤速度可適當前進,拋(pāo)光時間以拋掉粗拋的危害層為宜。精拋後磨麵明亮(liàng)如鏡,在(zài)顯微鏡明視場條件下看不到劃痕,但在相襯照(zhào)明(míng)條(tiáo)件下則仍可見到磨痕。金相試樣拋光質量的(de)好壞嚴重影(yǐng)響試樣的組織結構,已逐步引起有(yǒu)關專家的注重。近年來,國內外在拋光機(jī)的性能上(shàng)作了大量的研究工作
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